电磁场对电弧离子镀弧斑运动及薄膜表面大颗粒的影响规律研究

项目名称： 电磁场对电弧离子镀弧斑运动及薄膜表面大颗粒的影响规律研究

项目编号： No.51171197

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2012

项目学科： 金属材料学科

项目作者： 肖金泉

作者单位： 中国科学院金属研究所

项目金额： 60万元

中文摘要： 镀膜表面出现的大颗粒严重阻碍了电弧离子镀技术的发展与应用，遮挡屏蔽，磁过滤等技术是在等离子体传输过程中将大颗粒排除的方法，但带来了一些负面效应，是比较消极的办法。而外加磁场可以控制弧斑的运动，是一种从源头来解决大颗粒的重要方法，在国际上得到了极大重视，但国内这方面的工作开展得很少。本研究开展电磁场对电弧离子镀弧斑运动及薄膜表面大颗粒的影响规律研究，包括：轴对称磁场对电弧离子镀弧斑运动及TiN薄膜组织结构、表面大颗粒的影响；旋转横向磁场对电弧离子镀弧斑运动及TiN薄膜组织结构、表面大颗粒的影响；不同电磁场对所沉积TiN薄膜表面粗糙度、摩擦系数等性能的影响；电磁场对电弧离子镀弧斑运动的物理机制等内容。设计制备出轴对称及旋转横向磁场，并对其位形进行模拟，揭示电磁场对弧斑运动及所沉积薄膜表面大颗粒的影响规律，开发出放电均布于整个靶面的分布弧源技术，为促进电弧离子镀发展提供必要的技术理论储备。

中文关键词： 电弧离子镀；电磁场；弧斑运动；薄膜；大颗粒

英文摘要：

英文关键词： Arc ion plating；Electric magnetic field；Arc spot movement；Film；Macroparticles