用于<=11nm超细微结构制备的聚苯乙烯-聚(alpha-羟基羧酸)嵌段共聚物的引导组装

项目名称： 用于<=11nm超细微结构制备的聚苯乙烯-聚(alpha-羟基羧酸)嵌段共聚物的引导组装

项目编号： No.51373166

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2013

项目学科： 一般工业技术

项目作者： 季生象

作者单位： 中国科学院长春应用化学研究所

项目金额： 85万元

中文摘要： 嵌段共聚物引导组装有望突破光刻法的物理极限这一瓶颈，是制造下一代芯片的理想候选技术之一。目前，PS-PMMA和PS-PDMS等被广泛用于引导组装研究，但均有一定的局限性：PS-PMMA的相互作用参数(Chi)较小，而PS和PDMS的表面自由能(Gamma)相差较大。因此，它们均不满足半导体行业制备<=11nm半节距节点的技术要求。本项目将设计和合成具有大Chi和相近Gamma的聚苯乙烯-聚(alpha-羟基羧酸)嵌段共聚物，实现其在化学图案上的引导组装制备芯片设计所需的图案。聚苯乙烯-聚(alpha-羟基羧酸)结合了PS-PDMS和PS-PMMA的优点，有较大的Chi值和相近的Gamma值；尤为重要的是可通过改变聚酯嵌段的甲基数来调节它的Gamma值，而对共聚物的Chi值影响较小。引导组装该嵌段共聚物将可获得半节距<=11nm、垂直于基材的用于芯片设计的图案，从而推动引导组装的产业化进程。

中文关键词： 嵌段共聚物；引导组装；光刻法；化学图案；图案转移蚀刻

英文摘要： Directed assembly of block copolymers on chemical patterns holds promise to overcome the physical limitation of photolithography and is one of the most ideal alternative technologies for the fabrication of next generation integrated circuits and other dev

英文关键词： block copolymer；directed assembly；photolithography；chemical pattern；pattern transfer