三倍频强激光薄膜元件的离子后处理机理研究

项目名称： 三倍频强激光薄膜元件的离子后处理机理研究

项目编号： No.11174208

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2012

项目学科： 物理学I

项目作者： 张东平

作者单位： 深圳大学

项目金额： 73万元

中文摘要： 薄膜的激光损伤问题是严重影响激光系统稳定性和限制激光技术向高能量方向发展的瓶颈之一，特别对三倍频薄膜而言，其激光损伤问题尤其突出，现已成为国际上强激光领域研究的热点之一。提高薄膜激光损伤阈值除了探索新的沉积方法和沉积工艺外，采用后处理技术也是提高薄膜抗激光损伤能力的重要途径之一。本项目将探索采用一种新的提高薄膜激光损伤阈值的后处理技术- - 离子后处理。在对基频和倍频薄膜离子后处理研究的基础上，通过薄膜对不同波长离子后处理后激光损伤特性的比较分析，以及离子后处理后三倍频薄膜激光损伤阈值和薄膜类型的相关性分析，得出三倍频强激光薄膜元件的离子后处理机理，并以此为基础，建立离子后处理参量与薄膜激光损伤相关性物理模型。

中文关键词： 三倍频薄膜；激光损伤；离子后处理；；

英文摘要：

英文关键词： third harmonic optical coating；laser induced damage；ion posttreatment；；