吸光率调制光刻技术分辨力增强方法研究

项目名称： 吸光率调制光刻技术分辨力增强方法研究

项目编号： No.61405200

项目类型： 青年科学基金项目

立项/批准年度： 2014

项目学科： 无线电电子学、电信技术

项目作者： 王炯

作者单位： 中国科学院光电技术研究所

项目金额： 25万元

中文摘要： AMOL技术是一种远场超分辨光刻技术，具有系统简单、成本低廉、分辨力不受衍射极限限制等显著优点。然而，由于技术尚不成熟，还存在分辨力较低、图形质量较差等问题。本项目针对AMOL技术当前存在的主要问题，研究相应的改善方法，具体研究内容包括：基于矢量光场衍射理论，设计波前调制元件，调控AMOL系统的聚焦光场分布，获得可以提高其分辨力的优化设计结果；进一步研究不同偏振态光场对吸光率调制材料的具体影响，发展基于矢量光场的吸光率调制理论。研究吸光率调制材料与表面等离子体的相互作用机理，构建由吸光率调制材料、金属、电介质等组成的超分辨聚焦器件模型，采用有限元分析法优化结构参数，获得高分辨、长焦深的超分辨聚焦光斑。搭建实验系统，开展相关实验验证工作。本项目的开展有望解决AMOL技术目前存在的问题，为光刻领域提供一种低成本、高分辨、简便易行的新方法。

中文关键词： 超分辨光刻；矢量衍射理论；表面等离子体；；

英文摘要： AMOL, a technique of far-field supper-resolution lithography, has advantages of simplified setups, low cost, and diffraction unlimited resolution. However, the shortcomings as relative low resolution and poor imaging quality are also obvious due to the s

英文关键词： supper-resolution lithography；vector diffraction theory；Surface plasmon polaritons；；