与极紫外光刻光源相关联的高离化态原子光谱研究

项目名称： 与极紫外光刻光源相关联的高离化态原子光谱研究

项目编号： No.11304266

项目类型： 青年科学基金项目

立项/批准年度： 2014

项目学科： 数理科学和化学

项目作者： 胡峰

作者单位： 徐州工程学院

项目金额： 25万元

中文摘要： 随着科学技术日新月异的发展，半导体产业的不断进步，集成新片的集成度越来越高，对光刻机光源提出了更高的要求。其中极紫外光刻技术在各种光刻技术中最为引人注目。本项目提出结合扩大活动空间方法和相对论多组态Dirac-Fock 方法，考虑电子关联效应、量子电动力学效应以及核质量修正对于初末态能级的影响，给出与极紫外光刻光源相关联高离化态离子精确的原子结构参数。并利用该原子结构参数，计算锡离子在13.5 nm 波长附近的辐射跃迁波长和跃迁几率以及元素范围在62-74之间相关离子在6.x nm 波长附近的辐射跃迁波长和跃迁几率，检验前期的理论和实验数据，填补相关数据(Z=62-74)的空白。探讨在非局域热动平衡下，采用碰撞辐射模型来模拟相关等离子体产生的发射谱，为理解和解释实验谱线奠定基础并提供有用数据，对推动极紫外光刻光源的研究具有十分重要的意义。

中文关键词： 极紫外光刻；高离化态离子；原子参数；光谱；等离子体模型

英文摘要： Along with the development of science and technology, semiconductor industry is unceasing progress; the super-large-scale integration requires the exposure light with shorter wavelength.The extreme ultraviolet lithography is one of best candidate. By using the method of combing expansion of active set and multiconfiguration Dirac-Fock method, the atomic structure parameters of the high charged ions relative to the extreme ultraviolet lithography are calculated with the corrections of electron correlations, quantum electrodynamics corrections and nuclear charge distributions. The radiative transition of spectra at wavelength near 13.5 nm from Sn ions and near 6.x nm from ions in the range from Z=62-74 will be calculated to check the previous theoretical and experimental data and fulfill the gap in the range from Z=62-74. With the limit of Non-Local Thermodynamic Equilibrium, the profile of emission lines will be simulated to understand and explain the experimental spectra by using the Collisional Radiative Model.This can be very important for the research of extreme ultraviolet lithography.

英文关键词： extreme ultraviolet lithography；high charged ions；atomic parameters；spectra；plasma model