光学级金刚石厚膜沉积过程晶面取向与缺陷控制机理研究

项目名称： 光学级金刚石厚膜沉积过程晶面取向与缺陷控制机理研究

项目编号： No.11175137

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2012

项目学科： 数理科学和化学

项目作者： 汪建华

作者单位： 武汉工程大学

项目金额： 62万元

中文摘要： 化学气相沉积（CVD）金刚石厚膜具有透射光谱带宽、抗辐照损伤性强、耐腐蚀、耐磨损以及抗热震性能好等优点，是一种性能优异的窗口材料。但在大面积金刚石厚膜制备方面存在面积小、均匀性差、光学性能差等问题。本项目针对大面积金刚石厚膜制备过程中的上述关键问题，围绕大体积均匀微波等离子体的形成及等离子体特性对大面积金刚石厚膜的生长及性能的影响，利用电磁场模拟、等离子体诊断、光谱分析等手段，分析模式调节对等离子体体积及均匀性的影响，获得大功率微波等离子体中活性基团随等离子体特性的变化规律，分析微波电场分布对等离子体密度、电子温度、离子能量、等离子体均匀性的影响，确立等离子体参数与厚膜中晶体缺陷及内应力之间的内在联系。分析大功率微波等离子体作用下金刚石膜的取向生长动力学，确立金刚石厚膜取向生长的控制方法。项目的研究成果对于加快大面积金刚石厚膜光学窗口领域的发展具有重要意义。

中文关键词： 金刚石膜；电磁场模拟；微波等离子体；化学气相沉积；光学窗口

英文摘要：

英文关键词： Diamond films；electromagnetic field simulation；microwave enhanced plasma；chemical vapor deposition；optical window