电镀/化学镀纯铁机理与镀膜工艺研究

项目名称： 电镀/化学镀纯铁机理与镀膜工艺研究

项目编号： No.10976006

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2010

项目学科： 金属学与金属工艺

项目作者： 胡文成

作者单位： 电子科技大学

项目金额： 35万元

中文摘要： 惯性约束聚变（ICF）研究中，实现聚变反应的微靶是由几何尺寸微米至毫米量级的多种零件组装而成，其中的金属黑腔是实现激光-X光转换所不可或缺的零件，而高纯铁腔靶则是ICF实验中研究某些特殊物理实验现象与规律的重要黑腔之一。由于气相沉积的真空镀膜技术很难制得厚度5微米以上的金属镀层，对于物理实验所用的复杂性状黑腔更难制得均匀涂层。为此，本研究以金属/非金属为镀层芯轴材料，通过两次抗氧化层处理/离子钯活化技术，采用化学镀的方法，预先沉积出镀层均匀、内表面光洁、导电性能良好的纯铁（≥5%）薄层（≤微米），并研究该过程的沉积机理、沉积参数对微观形貌的影响和动力学过程。在预先沉积纯铁薄层的衬底上进一步通过双脉冲电镀技术高速沉积晶粒细小、致密性高、应力分布均匀、抗氧化性能优良、高纯度（≥5%）的厚铁层（≥0微米），并研究工艺条件对微观形貌和抗氧化性能的影响以及研究双脉冲电镀技术高速镀铁的机理。

中文关键词： 化学镀铁；电镀铁；双脉冲电镀；生长机制；第一性原理

英文摘要：

英文关键词： iron electroless；iron electroplating；double pulse-electroplating；deposited mechanism；the first principle