金属薄膜生长中物理参量及界面结构的椭偏光谱实时监控研究

项目名称： 金属薄膜生长中物理参量及界面结构的椭偏光谱实时监控研究

项目编号： No.51171012

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2012

项目学科： 一般工业技术

项目作者： 张维佳

作者单位： 北京航空航天大学

项目金额： 55万元

中文摘要： 金属薄膜在集成电路和太阳电池等领域都有重要应用，如作为互连线的Al-Si-Cu系合金，GaAs-A1GaAs等超晶格薄膜和作为电极的Ti/Pd/Ag金属膜电极等等，其中解决金属薄膜的界面结构层物理问题是应用的关键，而这与金属薄膜生长机制有关。本申请项目提出采用椭圆偏振光谱和透射光谱相结合对金属薄膜生长进行实时监控，研究金属薄膜生长时的椭偏光谱及透射光谱参数变化规律与膜界面结构层信息如界面态密度与缺陷分布等的相关性；研究金属薄膜界面结构层对电接触的影响和形成机理及监控；研究金属薄膜生长实时监控最佳方法和相关硬件设计加工及软件程序。具体研究Al-Si-Cu系等金属合金薄膜和Ti/Pd/Ag等多层金属薄膜从岛状→沟状→连续状初期生长过程的椭偏光谱及透射光谱参数变化规律与膜界面结构层信息如界面态密度、缺陷种类及分布、欧姆接触或整流接触、折射率分布、消光糸数分布等的关联性，由此制备出优质金属薄膜。

中文关键词： 金属膜；薄膜生长；椭圆偏振光谱；实时监控系统；计算和分析

英文摘要：

英文关键词： Metal film；film growth；spectroscopic ellipsometry；real-time monitoring system；calculation and analyse