大尺寸二维全息光栅的制作技术

项目名称： 大尺寸二维全息光栅的制作技术

项目编号： No.90923034

项目类型： 专项基金项目

立项/批准年度： 2010

项目学科： 化学工业

项目作者： 曾理江

作者单位： 清华大学

项目金额： 60万元

中文摘要： 二维平面移动台由于其具有速度快和阿贝误差小的特点，在超精密制造中日趋普及。与之对应的基于二维光栅尺的位移测量技术也成为研究热点。本申请以此为应用背景，研究大尺寸二维光栅的全息制作技术。这是一个跨尺度的制作技术。我们提出用曝光拼接的方法制作大尺寸二维全息光栅，着重解决二维光栅的排布精度问题。研究方案的特点在于：1）根据潜像光栅的干涉图，精确调整曝光拼接时的基板位置，保证两次曝光的光栅间距为光栅周期的整数倍且接缝尽可能小。2）用双光斑干涉图调整光栅基板的姿态，以保证两次曝光栅栅线平行且周期相同，在不增加扩束系统复杂性的前提下，提高角度对准精度；3）用光栅的45度锥面衍射特性调整光栅基板绕法线旋转的角度，保证二维光栅的栅线垂直度。4）结合流体力学分析和仿真，研究甩胶盒内气流与光刻胶溶液间的流动耦合与传质耦合，提高甩胶均匀性。我们也利用国际合作的方式，进行基于二维光栅尺的二维位移测量实验。

中文关键词： 二维光栅；曝光拼接；离子束刻蚀；栅线垂直度；栅线均匀性

英文摘要：

英文关键词： cross grating；optical mosaic；ion beam etching；groove orthogonality；pitch uniformity;