面向三维微纳结构加工的光电化学刻蚀侧壁调控机理与方法研究

项目名称： 面向三维微纳结构加工的光电化学刻蚀侧壁调控机理与方法研究

项目编号： No.51405245

项目类型： 青年科学基金项目

立项/批准年度： 2014

项目学科： 机械、仪表工业

项目作者： 孙广毅

作者单位： 南开大学

项目金额： 25万元

中文摘要： 针对微纳制造中传统高深宽比刻蚀工艺难以加工具有复杂侧壁形状的三维结构这一难题，本项目提出一种基于光电化学刻蚀侧壁调控技术的加工方法：探索硅基光电化学刻蚀侧壁形状控制机理，建立刻蚀过程的数学模型；结合虚拟工艺仿真技术，研究刻蚀结构空间演化规律；建立用于侧壁调控实验的光电化学刻蚀平台，突破原有工艺仅能加工周期性简单图形的限制，探索刻蚀侧壁形状与刻蚀参数之间的对应关系，进而形成一套面向复杂三维微纳结构加工，有坚实理论基础与可靠实验依据的光电化学刻蚀工艺方法；利用以上方法设计制备出面向水下长时间应用的强超疏水表面，验证整套工艺的实用性，力争为微纳制造领域提供一种新型加工手段。

中文关键词： 微加工技术；微机电系统；光电化学刻蚀；微流体；超疏水

英文摘要： We propose a new three-dimensional (3-D) micro- and nanofabrication process by photoelectrochemical (PEC) etching of silicon with sidewall profile modulation. The new process can solve a long-term problem of making complex 3-D micro- or nanostructure in h

英文关键词： Micromachining；MEMS；Photoelectrochemical Etching；Microfluidics；Superhydrophobic