项目名称: ArF激光薄膜抗激光损伤阈值与使用寿命预测研究
项目编号: No.61178020
项目类型: 面上项目
立项/批准年度: 2012
项目学科: 信息四处
项目作者: 邓文渊
作者单位: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
项目金额: 73万元
中文摘要: 193nm波长ArF激光在光刻技术等领域中具有十分重要的应用,其相关技术成为激光应用研究的热点。光学薄膜元件激光损伤与使用寿命是限制193nm激光应用进一步发展的主要瓶颈。同时由于影响193nm激光薄膜元件损伤的因素很多,机理十分复杂,目前还没有形成建立有效的基本理论模型。本项目拟通过对薄膜各种特性及演化的综合测试表征,系统研究薄膜特性及其演变与薄膜损伤之间的关系,建立193nm激光薄膜元件损伤机理和使用寿命预测的理论模型。首先系统研究衬底表面质量、薄膜材料、制备方法及工艺参数、薄膜类型、激光参数、及使用方式等对193nm激光薄膜损伤的影响,进而建立损伤机理的理论模型;其次研究长期低能密度193nm激光辐射下薄膜特性演化的规律,建立针对193nm激光薄膜使用寿命预测的理论模型。本项目将缩小我国与国际在193nm激光薄膜研究的差距,促进我国193nm激光应用技术的发展。
中文关键词: ArF激光;光学薄膜;激光损伤阈值;寿命;吸收
英文摘要:
英文关键词: ArF excimer laser;optical film;laser induced damage threshold;lifetime;absorption