射频容性耦合等离子体放电中电非对称效应机理的研究

项目名称： 射频容性耦合等离子体放电中电非对称效应机理的研究

项目编号： No.11405019

项目类型： 青年科学基金项目

立项/批准年度： 2014

项目学科： 数理科学和化学

项目作者： 张钰如

作者单位： 大连理工大学

项目金额： 30万元

中文摘要： 针对下一代450 mm，16/14 nm的晶片刻蚀工艺，如何能够在较高的刻蚀率下，实现均匀的各向异性刻蚀，是制约微电子工业发展的关键问题之一。由于能够在对称结构放电中，实现对轰击到基片表面的离子通量和离子能量的独立控制，电非对称效应被广泛地应用于大面积等离子体刻蚀工艺中。本项目将针对实际工艺中使用的复杂反应性气体，建立一套多场耦合模型。通过二维流体力学模拟的方法，系统地研究电非对称效应对等离子体特性的影响，以及当高次谐波存在时，电磁效应与电非对称效应的相互作用和二者对放电过程，尤其是等离子体均匀性的影响。此外，通过改变放电气压、电压波形、腔室结构等参数，重点考察不同放电条件下，电非对称效应对离子通量和离子能量的独立控制，为实现大面积均匀刻蚀提供优化方案。最后，将模拟结果与实验诊断相比较，进一步验证模型的可靠性。

中文关键词： 电非对称效应；电磁效应；等离子体均匀性；流体模型；实验验证

英文摘要： The etch rate, uniformity and anisotropy of the etching process are the key issues in plasma processing applications. The electrical asymmetry effect (EAE) has been widely used in large area plasma etching processes, since EAE allows one to control the io

英文关键词： electrical asymmetry effect；electromagnetic effects；plasma uniformity；fluid model；experimental validation