反应离子刻蚀微观不均匀性的跨尺度研究

项目名称： 反应离子刻蚀微观不均匀性的跨尺度研究

项目编号： No.10975030

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2010

项目学科： 数理科学和化学

项目作者： 戴忠玲

作者单位： 大连理工大学

项目金额： 33万元

中文摘要： 针对反应离子刻蚀工艺，建立由自洽的等离子体放电混合模型、表面物理化学作用微观模型与刻蚀剖面演化模型构成的跨尺度模型；全面考虑溅射、吸附、解吸附、粒子散射、沉积等表面物理和化学过程；提出等离子体混合模拟方法、蒙特卡洛方法和元胞法相结合的计算方法，研发出准确性高、健壮性好的模拟程序，跨尺度地模拟反应离子刻蚀全过程。针对溅射过程，提出基于Sigmund线性碰撞级联理论的溅射产额能量分量计算方法。提出基于Matching Cube方法的刻蚀剖面精确计算方法，提高元胞法刻蚀剖面定位精确度。研究外部参数和外电源参数与刻蚀过程中的物理化学作用、刻蚀剖面演化以及各种微观不均匀刻蚀现象之间的定标关系，研究刻蚀槽深宽比以及绝缘材料表面充电效应对刻蚀剖面演化的影响规律，探索旁刻等微观不均匀刻蚀产生的物理化学机制，探索微观不均匀刻蚀的参数调控与抑制方法，为等离子体刻蚀工艺的参数优化和控制提供理论依据。

中文关键词： 反应离子刻蚀；微观不均匀性；MC方法和元胞法；混合模拟；跨尺度

英文摘要：

英文关键词： reactive ion etching （RIE）；micro-nonuniformity；MC and cellular remove method；hybrid method；cross-scale