项目名称: (n11)GaAs衬底上高质量Ga(In)AsN的外延生长及光伏性能研究
项目编号: No.61376066
项目类型: 面上项目
立项/批准年度: 2013
项目学科: 无线电电子学、电信技术
项目作者: 韩修训
作者单位: 中国科学院兰州化学物理研究所
项目金额: 91万元
中文摘要: Ga(In)AsN由于能与GaAs晶格匹配,并满足高效三结或四结太阳能电池的带隙要求而备受瞩目。但N在Ga(In)As中均匀并入困难,由此产生的N缺陷降低了少数载流子的扩散长度,严重限制了该材料体系在多结太阳能电池中的应用。因而研究Ga(In)AsN材料中N的并入行为、电活性缺陷的产生机制和控制方法具有重要意义。本项目提出通过改变Ga(In)AsN材料的外延取向,在生长表面构筑N的活性吸附位的方法,拟解决Ga(In)AsN材料中N在替位的高效并入及抑制导致光电性能劣化的N缺陷的产生等关键科学问题。通过建立表面原子结构模型及生长动力学模型,揭示在不同外延取向下N的并入机制、In对N并入的影响机制、N缺陷的产生机制、及典型II、IV、VI族元素的掺杂机制;提出目标带隙下光伏性能优异的Ga(In)AsN的薄膜外延方法及电池器件工艺;为Ga(In)AsN材料在高效多结太阳能电池中的应用奠定基础。
中文关键词: 稀氮材料;光伏材料;多结太阳能电池;III-V族化合物半导体;载流子寿命
英文摘要: III-V-N dilute nitride [Ga(In)AsN] attracts intense research interest as the promising material to fulfill the energy-gap requirement of three-/four-junction solar cells while keeping lattice-matched to GaAs. However, various electrically active defects d
英文关键词: dilute nitride;photovoltaic materials;multijunction solar cells;III-V compound semiconductors;carrier lifetime