项目名称: 离子束溅射生物活体靶刻蚀作用的物理机制研究
项目编号: No.10975153
项目类型: 面上项目
立项/批准年度: 2010
项目学科: 数理科学和化学
项目作者: 吴跃进
作者单位: 中国科学院合肥物质科学研究院
项目金额: 39万元
中文摘要: 离子束溅射技术广泛应用于表面刻蚀和制备薄膜,对生物活体表面的刻蚀作用有重要应用前景。本项目研究注入离子能量、质量、入射角度和剂量等物理参数对生物靶材料溅射产额的影响,在离子束溅射与生物靶材料表面之间相互作用模拟基础上,利用SEM、STM和激光共聚焦显微镜等观察低能离子辐照后靶细胞损伤形貌、范围等变化以及溅射对活体组织内部的微损伤;通过对溅射碎片分析,探明生物靶主要组分(细胞壁、膜、骨架材料)对离子溅射刻蚀作用的差异;建立细胞电导率、染料排斥法和TTC染色脱氢酶活性定量分析技术的细胞通透性和活力分析评价体系,优化出生物靶材料细胞刻蚀的离子束注入物理参数。进一步优化细胞刻蚀加工的物理参数和方法,发展基于低能离子束刻蚀的活体细胞规模化加工技术,为离子束细胞加工和介导转基因技术提供理论和方法。
中文关键词: 低能离子束;溅射;细胞刻蚀;通透性;
英文摘要:
英文关键词: low-energy ion bean;sputtering;etching cell;Permeability;