基于近场超级透镜的亚波长纳米光刻技术的研究

项目名称： 基于近场超级透镜的亚波长纳米光刻技术的研究

项目编号： No.60906052

项目类型： 青年科学基金项目

立项/批准年度： 2010

项目学科： 金属学与金属工艺

项目作者： 郭小伟

作者单位： 电子科技大学

项目金额： 22万元

中文摘要： 传统光刻技术因衍射极限无法加工亚波长尺寸的微细结构，所以超衍射极限的微细加工技术一直是人们追求的目标，其研究具有重要的科学意义与应用价值。 本项目提出一种利用近场超级透镜结构来实现超衍射极限的纳米光刻方法，并研究解决其关键技术。项目的研究内容包括近场超级透镜结构超衍射极限成像的物理机制、超级透镜结构的设计与制作、建立光刻实验系统探索近场光刻的实验工艺等。重点解决的关键技术是近场超级透镜结构的光学传递函数、超级透镜结构膜层均匀性的制作工艺和基于近场超级透镜的光刻工艺条件等。研究将从理论分析、模拟彷真和原理性器件的实验等方面对其所提出方法进行验证，并探索其光刻质量改善的有效途径。 此方法满足微纳光、电子学领域纳米结构制作高分辨、低成本加工等诸多特殊要求，可望对极大规模集成电路和微纳光子、电子学的发展有重要的促进作用。

中文关键词： 光学光刻；超级透镜；衍射极限；表面等离子体；亚波长结构

英文摘要：

英文关键词： Optical lithography；Superlens；Diffraction limit；Surface plasmon；Subwavelength structure