超低能Si团簇负离子束沉积制备硅烯(silicene)

项目名称： 超低能Si团簇负离子束沉积制备硅烯(silicene)

项目编号： No.11375135

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2013

项目学科： 数理科学和化学

项目作者： 刘传胜

作者单位： 武汉大学

项目金额： 89万元

中文摘要： 本项目建立一套超低能团簇负离子束沉积装置，用铯溅射离子源产生Si的团簇负离子束，以6-20kV的吸极电压引出，并在衬底上加0-20kV负偏压，使团簇离子束的能量降低至100eV/atom以下，在Ag(001)、Ag(110)和Ag(111)表面形成silicene薄膜。用扫描隧道显微镜、原子力显微镜、高分辨透射电镜和角分辨光电子能谱测定silicene的晶体结构、表面形貌和电子结构，用霍尔效应测定其载流子浓度和迁移率。改变团簇离子能量、沉积剂量和衬底温度等参数，系统研究制备工艺对硅烯层的晶体结构和电子结构的影响，取得优化的工艺参数，制备1-3个原子层的silicene，用团簇-固体相互作用理论和晶体生长理论探讨超薄硅烯形成的物理机制，为发展制备silicene的超低能团簇离子束沉积技术奠定实验基础。

中文关键词： 离子注入；硅烯；团簇；结构；；；；

英文摘要： This project aims at developing ultralow-energy cluster ion beam depostion process for preparation of ultrathin layers of silicene. We will establish an ultralow-energy cluster ion beam deposition system where negative ion beams of Si clusters will be ge

英文关键词： Ion implantation; silicene; cluster; structure；；；；