光学薄膜材料极紫外辐射损伤机理研究

项目名称： 光学薄膜材料极紫外辐射损伤机理研究

项目编号： No.11375130

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2013

项目学科： 数理科学和化学

项目作者： 李文斌

作者单位： 同济大学

项目金额： 102万元

中文摘要： 随着短波长自由电子激光技术的发展，超快、超强极紫外和X射线波段自由电子激光对薄膜光学元件辐射损伤问题正成为研究热点。由于高强度短波长光源的缺乏，薄膜材料的极紫外辐射损伤研究开展地极为有限。针对我国计划发展的X射线自由电子激光试验研究，本项目拟结合激光等离子体光源和Schwarzschild微聚焦光学系统，在实验室条件下建立波长可调的高强度极紫外微聚焦源，并利用此光源开展单层膜和多层膜光学元件的极紫外辐射损伤研究。分析不同材料、不同厚度的单层膜在不同入射波长条件下的损伤阈值以及损伤机理。针对自由电子激光实验中所使用的多层膜光学元件，研究不同材料对组合以及间隔层对于提高多层膜抗辐射损伤的能力，结合有限元等方法分析多层膜的损伤机理。本项目的开展将弥补国际上该研究领域的空白，对我国自由电子激光的光束线设计、光学元件的开发，以及将来利用自由电子激光开展科学实验研究都具有十分重要的意义。

中文关键词： 极紫外损伤；Schwarzschild物镜；自由电子激光；Mo/Si多层膜；损伤阈值

英文摘要： With the rapid development of Free-electron-laser (FEL) at the short wavelength regime, the study of the damage mechanism of the ultrashort powerful EUV & X-ray pulses on the optics has become a hot research topic recently. Due to the deficiency of short-

英文关键词： EUV damage；Schwarzschild objective；Free electron laser；Mo/Si multilayer；Damage threshold