双焦波带片干涉显微成像实现极紫外位相型掩模缺陷探测方法研究

项目名称： 双焦波带片干涉显微成像实现极紫外位相型掩模缺陷探测方法研究

项目编号： No.61377015

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2013

项目学科： 无线电电子学、电信技术

项目作者： 高志山

作者单位： 南京理工大学

项目金额： 85万元

中文摘要： 本项目针对EUV掩模位相缺陷的探测，提出Dyson型双焦波带片干涉显微成像方法，建立随50-200nm宽、2-10nm高缺陷大小和其在Mo/Si多层膜内的缺陷深度变化的干涉场光强函数，指导满足探测该缺陷能力的双焦波带片位相函数的设计，分析离轴量、衍射级次选用对反射/透射式双焦波带片设计的影响规律，研究双焦波带片双位相函数的融合与经济编码算法，建立用于位相缺陷探测的Dyson型双焦波带片干涉显微成像实验平台。该方法采用Dyson型双焦波带片作为干涉显微成像元件、位相型反射光栅作为分光元件，元件数量少、易于装校（具有定位指示）、可靠性好。它的研究将在EUV掩模缺陷探测方面开辟一个新的领域，为我国极大规模集成电路制造与成套工艺研究解决一项单元技术，推动短波光学与微纳检测领域的技术发展。

中文关键词： EUV掩模；位相缺陷；双焦波带片；无镜成像；

英文摘要： In terms of the inspection of phase defect of extreme ultraviolet (EUV) mask, the image method of Dyson interferometric microscope with twin-focus zone plate is proposed. In this research project, the light intensity functions of interference field with t

英文关键词： EUV mask；phase defect；Twin-focal zone plate；lensless imaging；