基于光栅调制空间相位成像纳米对准相位解析研究

项目名称： 基于光栅调制空间相位成像纳米对准相位解析研究

项目编号： No.60976077

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2010

项目学科： 自动化技术、计算机技术

项目作者： 胡松

作者单位： 中国科学院光电技术研究所

项目金额： 33万元

中文摘要： 本项目旨在运用理论分析、模拟计算及实验验证等方法，针对基于衍射光栅空间相位成像的、具有纳米级甚至亚纳米级精度的、及抗干扰能力强的纳米对准方法，研究一种具有良好实时性及高精度的条纹图像相位解析算法。从而完善基于光栅调制及相位分析的对准方法体系，以适应新型高分辨力光刻技术如纳米压印、EUV光刻及表面等离子体光刻等对高精度对准技术的迫切需求。

中文关键词： 光刻；对准；莫尔条纹；相位解析；

英文摘要：

英文关键词： lithography；alignment；moire fringe；phase demodulation；