低温基质隔离红外光谱研究硅-过渡金属氢桥键

项目名称： 低温基质隔离红外光谱研究硅-过渡金属氢桥键

项目编号： No.21371136

项目类型： 面上项目

立项/批准年度： 2013

项目学科： 数理科学和化学

项目作者： 许兵

作者单位： 同济大学

项目金额： 80万元

中文摘要： 本研究拟用低温基质隔离红外光谱方法，研究SiH4及其同位素取代物SiD4 与过渡金属反应产生的产物结构，结合量子化学理论计算，对其红外吸收光谱进行归属，重点研究硅-过渡金属氢桥键（Si-H-M）的结构特征和成键机理，阐明其形成机制。从而揭示这类 "氢桥键" 的成键规律。此研究能拓展结构化学中的硅化学理论，为相关化学反应提供理论基础。

中文关键词： 基质隔离；红外光谱；氢桥键；量子化学计算；

英文摘要： The structure and the bonding theory of Si-H-M hydrogen bridge bond (HBB) which were existed in the reaction product between the SiH4/SiD4 and transition metal atoms are going to be studied by matrix-isolatd infrared spectroscopic. After assignment of inf

英文关键词： matrix isolated；infrared spectroscpy；hydrogen bridge bond；quantum chemistry calculation；